环境闭塞可以帮助增加你的渲染作品的真实感，但是要在Max中创建环境闭塞有一点麻烦，特别是当你同时使用mental ray描影器和标准描影器的时候。你可以通过使用照明来创建一种环境闭塞效果，但是渲染起来会很慢，并且难以获得正确的效果。所以如果你想跳过这整个步骤，你只需要使用渲染选项中的材质覆盖来完成这个工作。这种方法很快速，并且可以让你在独立的通道里获得额外的环境闭塞。有了独立的通道之后你可以根据自己的想法调节和操纵软件，而不会影响到接下来的渲染。
作者：Tom Isaksen
需要注意的是，这个教程中使用的软件是3ds Max 2011和photoshop CS5。早期版本也可以使用，但是界面可能会有些许的差异。
图01
第一步：创建一个mental ray材质。
首先要确定渲染设定菜单中添加了mental ray插件(按F10)(图02)。
图02
然后打开材质编辑器(按M键)，选择一个空的材质插槽。命名新的名字，比如“AO材质”，点击标准按钮，选择Material/Map Browser中的mental ray描影器(图03)。
图03
现在你们可以看到mental ray描影器。在基础描影器下面点击Surface参数设置，选择Material/Map Browser中的Ambient/Reflective Occlusion(图04)。
图04
描影器会如图05显示(图05)。
图05
